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突发!SK海力士DRAM厂氢氟酸泄露 致3人受伤
来源:慧正资讯   发布时间:2021-04-10   浏览:6382

2021年4月6日上午11时35分,韩国半导体制造商SK海力士旗下的一座工厂发生了化学品泄漏事故,导致3名工人受伤。

 

从韩国媒体的报道来看,发生化学品泄漏事故的,是SK海力士位于韩国利川市的M16工厂,事故发生在这一工厂的5楼,泄漏的是氢氟酸。

据了解,在泄漏事故发生时,工人正在对5楼的设备进行检查,3名工人在泄漏事故中受伤,其中1名员工胳膊和腿部被烧伤,另2名员工则不慎吸入氟酸气体被立即送往医院,截止目前,3人均无生命危险。

经韩国警方调查认为,氢氟酸在维护公司正在试用环境分析设备时泄漏。对此SK海力士表示,此次事故是在对新的M16工厂设备进行检查时发生的,泄露事故于泄露当日已处理妥善,只是少量泄露,对半导体生产没有影响。”值得庆幸的是, 3名受伤的工人在被送医急救之后已无大碍。至于真正的化学品泄漏原因,SK hynix表示将积极协助当地消防局做进一步调查。

公开信息显示,氢氟酸(Hydrofluoric Acid)是氟化氢气体的水溶液,清澈,无色、发烟的腐蚀性液体,有剧烈刺激性气味。氢氟酸是一种弱酸,具有极强的腐蚀性,能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。实验室一般用萤石(主要成分为氟化钙)和浓硫酸来制取,需要密封在塑料瓶中,并保存于阴凉处。

本次发生氢氟酸泄露事故的M16工厂,是SK海力士刚刚建成的一座新工厂,该工厂建设累计投资达3.5万亿韩元,主要用于生产DRAM产品。新工厂的建筑面积大57000平方米,是SK海力士在全球最大的生产基地。作为SK海力士面向未来的一座重要工厂,M16工厂还引进了极紫外光刻机,这是SK海力士首次引进这一类设备。目前M16工厂正在进行最后一批生产设备的装机与测试工作,为2021年下半年的正式量产做准备。

据了解,DRAM主要可以分为DDR(Double Data Rate)系列、LPDDR(Low Power Double Data Rate)系列和GDDR(Graphics Double Data Rate)系列、HBM系列。按目前市场来看,韩国三星、海力士、美国美光三大寡头垄断DRAM市场。目前仅以三家巨头为主,其他厂商包括中国台湾的南亚科技、华邦电子等。

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